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作者 Kyind (艾米恩)
標題 Re: [問卦] 對面的光刻機技術真的要突破了嗎？
時間 Fri Sep 15 10:57:39 2023

如果沒有相關知識只看人家發的稿就會這樣

有唸過一點光學的都很容易明白這個就是亂唬爛

第一
雷射功率
光的強度取決粒子多寡，精確到3nm意義不只是光徑縮小到3nm，也要有足夠的功率去刻晶片。

第二
精確度
雷射打的位置是否偏移，穩定度等，這都是需要極其精密的設計與零件品質。
這方面中國……

第三
光散射
讀過基本光學都知道光通過狹縫會繞射
所以看到最後一段就會覺得這在供啥小

結論：文組洗洗睡啦


※ 引述《esolve (nobbb)》之銘言：
: 中國不是做光刻機
: 中國是做光刻工廠
: 做光刻機確實很難
: 因為荷蘭asml做光刻機有積累有專利，是多個國家高精尖技術的匯聚
: 但是荷蘭做的光刻機是為了賣
: 所以要做的小，做成產品
: 但是中國做光刻工廠不是為了賣，而是為了造芯片
: 所以不需要做小，不需要那麼多高精尖配件
: 這就是另闢蹊徑
: 比如說
: asml光刻需要的光源要做到精確的3nm
: 那確實很難
: 但是中國光刻工廠就不做精確光源
: 而是做精確的篩子
: 3nm 7nm 14nm的篩子
: 用同步輻射光源打出各種光
: 刻3nm芯片的部分放上3nm篩子
: 刻7nm芯片的部分放7nm篩子
: 這樣一次發射，同時刻不同芯片

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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 49.216.81.136 (臺灣)
※ 作者: Kyind 2023-09-15 10:57:39
※ 文章代碼(AID): #1b0yWbsr (Gossiping)
※ 文章網址: https://www.ptt.cc/bbs/Gossiping/M.1694746661.A.DB5.html
※ 同主題文章:
Re: [問卦] 對面的光刻機技術真的要突破了嗎？
09-15 10:14 esolve
Re: [問卦] 對面的光刻機技術真的要突破了嗎？
09-15 10:57 Kyind
推 esolve: 最後一段只是類比舉例，降低理解門檻，太複雜的東西難懂而且大家不想看
就是用來說明一個功能如果一種思路實現不了，就換另一種思路去實現1F 103.172.41.146 香港 09/15 11:00
→ VVizZ: 篩完功率就不夠了然後加強功率的話篩子先爛連文組的都感覺你這說法問題很大
你篩子的材料反射率太強連發射源都一起燒掉5F 220.130.142.210 台灣 09/15 11:03

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